老虎說(shuō)芯

“老虎說(shuō)芯”由北京大學(xué)微電子專業(yè)本碩，中國(guó)電源學(xué)會(huì)會(huì)員、在半導(dǎo)體行業(yè)有10多年經(jīng)驗(yàn)的胡獨(dú)巍先生撰寫(xiě)，為大家提供半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)于材料、工藝、應(yīng)用、市場(chǎng)、資訊等方面的內(nèi)容。在知乎有同名賬號(hào)。

小米SU7汽車搭載哪些類型的芯片？

更新日期： 2025-04-14
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小米SU7系列共有三款車型：SU7、SU7 Pro、SU7 Max。 SU7版：1顆Orin N芯片+純視覺(jué)方案（車外11個(gè)攝像頭）+1個(gè)毫米波雷達(dá)，智駕功能相對(duì)基礎(chǔ)。 SU7 Pro版：……

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中國(guó)對(duì)美國(guó)加征關(guān)稅對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的影響

更新日期： 2025-04-14
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美國(guó)與中國(guó)之間的貿(mào)易沖突自2018年開(kāi)始加劇。2025年4月2日，美國(guó)正式實(shí)施“對(duì)等關(guān)稅”，對(duì)所有進(jìn)口商品加征10%的關(guān)稅，并對(duì)中國(guó)商品加征額外的關(guān)稅。美國(guó)政府將這一政策作為旨在減少巨額商品貿(mào)易逆差、恢復(fù)制造業(yè)基礎(chǔ)并保護(hù)技術(shù)優(yōu)勢(shì)的回應(yīng)。中國(guó)則在同一天宣布，依據(jù)相關(guān)法律，對(duì)美國(guó)進(jìn)口商品加征34%的關(guān)稅，以回應(yīng)美國(guó)……

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如何看待中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的未來(lái)發(fā)展？

更新日期： 2025-04-02
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在談及中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的未來(lái)發(fā)展時(shí)，我們必須深刻理解這是一個(gè)典型的高技術(shù)壁壘和高資本投入的產(chǎn)業(yè)，更是全球科技競(jìng)爭(zhēng)的戰(zhàn)略制高點(diǎn)。要想在這個(gè)極其復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)體系中取得突破，需要我們從以下幾個(gè)關(guān)鍵維度入手，方能真正穿越周期、實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期健康成長(zhǎng)。一、準(zhǔn)確把握時(shí)代趨勢(shì)，實(shí)現(xiàn)熵管理半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是數(shù)字化與AI時(shí)代的核心支撐?！?/div>

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如何看待國(guó)產(chǎn)芯片行業(yè)的內(nèi)卷現(xiàn)狀？

更新日期： 2025-04-02
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國(guó)內(nèi)芯片行業(yè)的內(nèi)卷現(xiàn)象，本質(zhì)上是資本過(guò)度競(jìng)爭(zhēng)、技術(shù)積累不足與戰(zhàn)略模糊的結(jié)果。要走出內(nèi)卷困境，芯片企業(yè)需要從戰(zhàn)略聚焦、技術(shù)突破、生態(tài)建設(shè)、運(yùn)營(yíng)優(yōu)化等多方面入手，秉持長(zhǎng)期主義，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)生態(tài)的完善和競(jìng)爭(zhēng)力的提升。同時(shí)，要警惕短期機(jī)會(huì)主義，避免陷入“資本泡沫”，以穩(wěn)定且可持續(xù)的模式走向行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位。 1、國(guó)內(nèi)芯片行業(yè)的內(nèi)……

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柵極（Gate）的基本原理、材料選擇和工藝方法

更新日期： 2025-04-02
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在晶體管世界里，如果將晶體管比作一個(gè)可控的“水龍頭”，那么柵極（Gate）就如同控制龍頭開(kāi)關(guān)的閥門，其重要性不言而喻。隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入納米時(shí)代，柵極的材料與制造工藝不斷進(jìn)步，成為提升器件性能的關(guān)鍵之一。柵極的技術(shù)背景與工作原理晶體管中的柵極位于源極（Source）與漏極（Drain）之間，通過(guò)外加電壓……

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光刻工藝中為什么正膠比負(fù)膠使用較多？

更新日期： 2025-04-02
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在現(xiàn)代集成電路制造中，正光刻膠（Positive Photoresist）是絕對(duì)的主流選擇，尤其在先進(jìn)制程（如 28nm、16nm、7nm 及以下）中，絕大多數(shù)關(guān)鍵層都使用正光刻膠。 1. 分辨率與線寬控制正膠的成像原理 ……

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光刻工藝：光刻膠、曝光方式、光刻主要步驟

更新日期： 2025-04-02
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光刻工藝貫穿整個(gè)芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié)，對(duì)于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn)，對(duì)光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求持續(xù)攀升，光刻技術(shù)也將不斷演化，支持更為先進(jìn)的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計(jì)。一、光刻在集成電路制造中的地位在制造集成電路時(shí)，常需反復(fù)多次“轉(zhuǎn)印”設(shè)計(jì)圖形到硅襯……

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光刻工藝中g(shù)線、i線、DUV、EUV是什么意思？

更新日期： 2025-04-02
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不同波長(zhǎng)的光源各自對(duì)應(yīng)不同的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和制造需求。從早期的 g線、i線到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV，每一次升級(jí)都展現(xiàn)了更高分辨率和更先進(jìn)的工藝水平。隨著對(duì)器件尺寸不斷逼近物理極限，EUV及其后續(xù)升級(jí)版本將持續(xù)發(fā)展。但需注意，EUV設(shè)備昂貴、維護(hù)復(fù)雜，加之掩模技術(shù)、襯底材料以及光刻膠等配套環(huán)節(jié)……

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深入理解芯片封裝設(shè)計(jì)圖紙

更新日期： 2025-04-02
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封裝設(shè)計(jì)圖紙是集成電路封裝過(guò)程中用于傳達(dá)封裝結(jié)構(gòu)、尺寸、布局、焊盤、走線等信息的重要文件。它是封裝設(shè)計(jì)的具體表現(xiàn)，是從設(shè)計(jì)到制造過(guò)程中不可缺少的溝通工具。封裝設(shè)計(jì)圖紙可以幫助工程師、制造商和測(cè)試人員理解封裝設(shè)計(jì)的細(xì)節(jié)，確保設(shè)計(jì)與生產(chǎn)的準(zhǔn)確性和一致性。 1.封裝設(shè)計(jì)圖紙的基本概念封裝設(shè)計(jì)圖紙是由封裝工程師使……

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全球主要消費(fèi)電子傳感器巨頭有哪些？

更新日期： 2025-04-02
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現(xiàn)代智能手機(jī)、可穿戴設(shè)備和物聯(lián)網(wǎng)終端中廣泛應(yīng)用著各類傳感器。以下匯總了全球范圍內(nèi)在消費(fèi)電子傳感器領(lǐng)域具有代表性的廠商，包括加速度計(jì)、陀螺儀和環(huán)境傳感器等類別，并比較它們的產(chǎn)品方向、技術(shù)優(yōu)勢(shì)、市場(chǎng)定位和總部所在地。 Bosch Sensortec （博世，德國(guó)） Bosch Sensortec是博世旗下專注于……

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如何理解芯片設(shè)計(jì)中的后端布局布線

更新日期： 2025-04-02
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后端布局布線（Place and Route，PR）是集成電路設(shè)計(jì)中的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，它主要涉及如何在硅片上合理地安排電路元器件的位置，并通過(guò)布線將這些元器件連接起來(lái)，以確保芯片能夠正確地工作。這個(gè)過(guò)程是芯片設(shè)計(jì)的最后階段之一，它將前端的邏輯設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為物理實(shí)現(xiàn)。 1. 布局（Place）：布局階段的主要任務(wù)……

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如何評(píng)估芯片封裝廠OSAT的工藝能力

更新日期： 2025-03-04
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OSAT工藝能力評(píng)估是封裝設(shè)計(jì)和制造過(guò)程中至關(guān)重要的一個(gè)環(huán)節(jié)，涉及評(píng)估外包封裝和測(cè)試服務(wù)提供商（OSAT，Outsourced Semiconductor Assembly and Test）的工藝能力，確保其能夠滿足芯片封裝的性能、質(zhì)量和生產(chǎn)要求。有效的OSAT工藝能力評(píng)估不僅有助于選擇合適的供應(yīng)商，還能確保整個(gè)封裝過(guò)程的順利進(jìn)行，減少風(fēng)險(xiǎn)，降低成本。 1.OSAT工藝能力評(píng)估的基本概念 OSAT工藝能力評(píng)估是指對(duì)外部封裝和測(cè)試服務(wù)提供商的生產(chǎn)能力、工藝流程、質(zhì)量控制、技術(shù)水平、設(shè)備能力等方

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